突出贡献：从事材料专业领域的研究，提出了用小角度X射线衍射评价单层膜及多层膜结构的新方法。国际上首次通过氮掺杂显著提高了金属/碳软X射线光学多层膜的结构热稳定性；提出了“掺杂退热效应”和“制备化合物软X射线光学多层膜以提高软X射线光学多层膜结构稳定性”的新概念。在国际上首次研究了强磁场中的射频溅射行为，并在强磁场中成功制备出具有良好结构取向的磁性薄膜。“化合物软X射线多层膜的制备及其结构稳定性”等两项课题获国家自然科学基金资助。
